产业技术路线图的内涵

产业技术路线图的内涵包括：

1. 产业远景：不论产业远景是「由上而下」的设定或「由下而上」的建构，产业技术路线图的建构皆须有产业远景为依归，否则难以进行后续的技术需求推演；
2. 广泛地产品或服务：与企业存在的价值的精神一致，产业存在的意义为提供该领域的产品或服务，因此产业远景的描绘应包括该产业所提供的产品或服务。但由于产业技术路线图系专注于市场竞争前的技术规划与合作促进，因此产品与服务的描绘仅限于产品或服务属性（Attributes）的功能水准（Performance levels），例如半导体技术路线图定义各里程碑年度的DRAM、微处理器的半线宽（half-pitch）、闸极长度（Gate length）的技术目标值；
3. 定义达成未来产品或服属性功能的促成技术（Enabling technologies）：所谓促成技术的意义系指让现况与产业远景连结，并促使产业远景达成的技术[1]；促成技术包括现有成熟的技术、开发中的技术、以及新需要的技术。然此处所指的技术为技术的功能，而非指达成功能的技术；以半导体技术路线图为例，此处所指的技术系指需达成目标年DRAM、微处理器的半线宽（half- pitch）、闸极长度（Gate length）的技术功能，例如1992年所出版的技术路线图即指2007年产业的DRAM远景为半线宽达到100奈米；这是技术功能，而并没有指出达到100奈米的技术项目为何？
4. 提出满足新需求技术（功能）的方案，并分析其可行性：也就是分析达成新技术功能的可行技术为何？再以半导体地图为例，为达成2007年的技术目标，当时（1997年）平版印刷（Lithography）对150奈米以下可用于平版印刷的的技术并不确定，故提出并分析各种可能的技术解决方案，如图1.12所示，包括已使用的深紫外线（Deep Ultraviolet, DUV）技术，新考虑的超紫外线（Extreme Ultraviolet, EUV）、电子束（E-Beam）、离子束（Ion-Beam）、X光（Proximity X-ray）等技术；
5. 研究计画的研提，以顺利开发出所需的技术：技术路线图制作的主要目的之一为促进各单位间研究计画的合作，政府也乐见产、学、研单位间的整合，共同提出具远景的研发计画；因此此一部分为技术路线图的重点，若技术路线图未能提出长期性的整合计画，则技术路线图不能算是完成；
6. 产业技术路线图报告：综整以上成果、描绘由技术开发到市场应用的完整地图（roadmap）、律订各方的角色、未来人力资源需求（包括研发人力与产业从业人员）、政府与非政府的障碍、以及其他课题。

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[1]促成技術（Enabling technologies）: 依照字典的解釋，"促成"（enabling）是一個重要的概念，意指「可以達成目的」。促成技術係指可以讓原本獨立的構成要素（components），開始進行互動。例如，原本系統不相容的電腦，可以透過中介軟體（middleware），達成資源共享的目的；或企業訊息化（enterprise messaging）或是中介軟體（middleware），可以將分散的，甚至是先前不相容的電腦或軟體連結了起來，這就是促成科技。因此，促成技術的意義係指讓現況與產業遠景連結，並促使產業遠景達成的技術。